home | login | register | DMCA | contacts | help | donate |      

A B C D E F G H I J K L M N O P Q R S T U V W X Y Z
А Б В Г Д Е Ж З И Й К Л М Н О П Р С Т У Ф Х Ц Ч Ш Щ Э Ю Я


my bookshelf | genres | recommend | rating of books | rating of authors | reviews | new | форум | collections | читалки | авторам | add
fantasy
space fantasy
fantasy is horrors
heroic
prose
  military
  child
  russian
detective
  action
  child
  ironical
  historical
  political
western
adventure
adventure (child)
child's stories
love
religion
antique
Scientific literature
biography
business
home pets
animals
art
history
computers
linguistics
mathematics
religion
home_garden
sport
technique
publicism
philosophy
chemistry
close

Loading...


Закон Мура снова в безопасности

Пресловутый «закон» Мура живет и здравствует на протяжении десятилетий – и отправляться в запасники истории пока не намерен. В последние несколько лет особенно часто появляются сообщения о новейших технологиях, способных продлить срок применения этого эмпирического правила.

Очередную идею предлагают инженеры из Беркли: чтобы сфокусировать пучок УФ-излучения, применяемый при фотолитографическом способе производства микросхем, до сверхмалых площадей (около 80 нм), они намерены использовать плазмонные металлические линзы.

Плазмон – квазичастица, квант плазменных колебаний, настолько же реальный и эффективный способ описания свойств таких колебаний, как фотон для электромагнитной волны или фонон – для волны звуковой. Плазмоны возникают при описании электромагнитных свойств металлов, рассматриваемых как совокупность трехмерной кристаллической решетки, образованной ионами собственно металла, и заполняющей эту решетку электронной плазмы.

При определенных условиях такая электронная плазма взаимодействует с падающим на металл световым (электромагнитным) потоком подобно линзе – оказывая влияние на форму пучка. Плазмонная фокусировка оказывается куда более точной, чем при использовании обычных линз. Размер итогового пучка зависит от точности фокусировки, а скорректировать «форму» плазмонной линзы электронными средствами управления значительно проще, чем с той же точностью отшлифовать линзу из стекла или иного материала. В лаборатории были получены пучки, при помощи которых на поверхности образца изображались структуры с характерной толщиной линий 80 нм.

Исследователи из Беркли заявляют, что уже в ближайшее время при помощи плазмонной нанолитографии удастся на порядок уменьшить размеры микропроцессоров, увеличив при этом их вычислительную мощь. Та же технология в приложении может обеспечить плотность записи, на один-два порядка превосходящую доступную на рынке в настоящее время. Сегодняшний предел традиционной фотолитографии, составляет 35 нм – Новая методика способна за короткое время пройти путь от нынешних 80 до 5-10 нм.


Виртуальный сервер как средство борьбы с кризисом | Журнал PC Magazine/Russian Edition #01/2009 | Adobe против пиратов







Loading...